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  文件名称:  微波等离子体组件——RPS源
  公司名称:  北京杰能达机电设备有限公司
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  文件详细说明:
 

       RPS为Remote Plasma Source(远端等离子源)的简称,同时也是Radical Plasma Source(自由基等离子源)的简称,是德国牧歌公司的专利产品。其定义来自RPS的工作原理:即等离子只产生并且存在于RPS本体中,而不是在与之连接的工艺腔体内;工艺腔体内部没有等离子,PRS输入到其中的只有“自由基”(radicals)。因此RPS也称为自由基等离子源。 RPS产生的自由基只能与工艺对象进行纯粹的化学反应,从而在产生极少热量的前提下,进行高速无物理损伤的刻蚀。 因此RPS非常适合需要避免离子轰击及高热负荷的工艺。

       关键要素:

       远程等离子体源系统的独特特性为以下领域提供了前沿技术。

       硅、氮化硅、氧化硅的各向同性蚀刻,具有优异的腐蚀速率。

       光刻胶剥落在不同的材料上,如硅、氧化硅、金属、高钾、低钾材料。

       使用例如2 SLM NF3 @ 0.5 TORR的低压清洗室。

       柔性PCB电路板:钻孔和去污

       表面处理,如硅表面的氮化或氧化

       半导体行业中性能出色

       后端应用,如晶圆片细化和应力消除。

       我公司代理的微波发生器、微波组件、等离子组件及系统等,为 半导体OEM厂商、人造钻石合成、光伏 等主流行业方向提供了低成本、高可靠性的解决方案,您可以通过网页拨打本公司的服务电话了解更多产品的详细信息,欢迎新老客户放心选购自己心仪产品,国际亚洲游AG将竭诚为您服务!

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